[1]杜绍洪,谭迎春,杨际祥.硅片表面杂质浓度扩散方程的差分方法[J].西华师范大学学报(自然科学版),2017,38(01):92-96.[doi:10.16246/j.issn.1673-5072.2017.01.016]
　DU Shaohong,TAN Yingchun,YANG Jixiang.A Finite Difference Method for Diffusion Equation of Impurity Concentration on the Surface of Silicon Wafer[J].Journal of China West Normal University(Natural Sciences),2017,38(01):92-96.[doi:10.16246/j.issn.1673-5072.2017.01.016]
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硅片表面杂质浓度扩散方程的差分方法()
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《西华师范大学学报(自然科学版)》[ISSN:1673-5072/CN:51-1699/N]

卷:
38
期数:
2017年01期
页码:
92-96
栏目:
出版日期:
2017-03-20

文章信息/Info

Title:
A Finite Difference Method for Diffusion Equation of Impurity Concentration on the Surface of Silicon Wafer
作者:
杜绍洪; 谭迎春; 杨际祥
(1．重庆交通大学 数学与统计学院，重庆400074； 2．重庆市第十一中学校，重庆400061)
Author(s):
DU Shaohong1; TAN Yingchun2; YANG Jixiang1
(1.School of Mathematics and Statistics,Chongqing Jiaotong University,Chongqing 400074,China; 2.Chongqing No.11 Middle School,Chongqing 400061,China)
关键词:
扩散方程; 差分格式; 数值解; 有效性; 条件稳定
Keywords:
diffusion equation; difference scheme; numerical solution; effectiveness; conditionally stable
分类号:
O241.82
DOI:
10.16246/j.issn.1673-5072.2017.01.016
文献标志码:
A
摘要:
对硅片表面杂质浓度扩散方程，通过对初、边值条件的仔细观察，根据其具有的特点，提出了一种差分求解格式，数值试验表明该格式条件稳定、有效。
Abstract:
This paper talks about the diffusion equation of impurity concentration on the surface of silicon wafer.A finite difference scheme is put forward after a careful observation of initial conditions and boundary ones according to its characteristics.Numerical experiments show that the presented scheme is conditionally stable and effective.

参考文献/References:


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备注/Memo

备注/Memo:

收稿日期：2016-08-31基金项目：重庆市自然科学基金项目（CSTC,2010BB8270）
作者简介：杜绍洪（1972—），男，四川阆中人，博士，副教授，主要从事有限元方法及偏微分方程数值解的研究。
通信作者：杜绍洪,E-mail: duzheyan.student@sina.com
引用本文：杜绍洪，谭迎春，杨际祥.硅片表面杂质浓度扩散方程的差分方法［J］.西华师范大学学报(自然科学版),2017,38(1):［DU Shaohong,TAN Yingchun,YANG Jixiang.A finite difference method for diffusion equation of impurity concentration on the surface of silicon wafer［J］.Journal of China West Normal University(Natural Sciences),2017,38(1):9296.］硅片表面杂质浓度扩散方程的差分方法
更新日期/Last Update: 2017-03-20