[1]杜绍洪,谭迎春,杨际祥.硅片表面杂质浓度扩散方程的差分方法[J].西华师范大学学报(自然科学版),2017,38(01):92-96.[doi:10.16246/j.issn.1673-5072.2017.01.016]
 DU Shaohong,TAN Yingchun,YANG Jixiang.A Finite Difference Method for Diffusion Equation of Impurity Concentration on the Surface of Silicon Wafer[J].Journal of China West Normal University(Natural Sciences),2017,38(01):92-96.[doi:10.16246/j.issn.1673-5072.2017.01.016]
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硅片表面杂质浓度扩散方程的差分方法()
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《西华师范大学学报(自然科学版)》[ISSN:1673-5072/CN:51-1699/N]

卷:
38
期数:
2017年01期
页码:
92-96
栏目:
出版日期:
2017-03-20

文章信息/Info

Title:
A Finite Difference Method for Diffusion Equation of Impurity Concentration on the Surface of Silicon Wafer
作者:
杜绍洪谭迎春杨际祥
(1.重庆交通大学 数学与统计学院,重庆400074; 2.重庆市第十一中学校,重庆400061)
Author(s):
DU Shaohong1TAN Yingchun2YANG Jixiang1
(1.School of Mathematics and Statistics,Chongqing Jiaotong University,Chongqing 400074,China; 2.Chongqing No.11 Middle School,Chongqing 400061,China)
关键词:
扩散方程差分格式数值解有效性条件稳定
Keywords:
diffusion equationdifference schemenumerical solutioneffectivenessconditionally stable
分类号:
O241.82
DOI:
10.16246/j.issn.1673-5072.2017.01.016
文献标志码:
A
摘要:
对硅片表面杂质浓度扩散方程,通过对初、边值条件的仔细观察,根据其具有的特点,提出了一种差分求解格式,数值试验表明该格式条件稳定、有效。
Abstract:
This paper talks about the diffusion equation of impurity concentration on the surface of silicon wafer.A finite difference scheme is put forward after a careful observation of initial conditions and boundary ones according to its characteristics.Numerical experiments show that the presented scheme is conditionally stable and effective.

参考文献/References:


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备注/Memo

备注/Memo:

收稿日期:2016-08-31基金项目:重庆市自然科学基金项目(CSTC,2010BB8270)
作者简介:杜绍洪(1972—),男,四川阆中人,博士,副教授,主要从事有限元方法及偏微分方程数值解的研究。
通信作者:杜绍洪,E-mail: duzheyan.student@sina.com
引用本文:杜绍洪,谭迎春,杨际祥.硅片表面杂质浓度扩散方程的差分方法[J].西华师范大学学报(自然科学版),2017,38(1):[DU Shaohong,TAN Yingchun,YANG Jixiang.A finite difference method for diffusion equation of impurity concentration on the surface of silicon wafer[J].Journal of China West Normal University(Natural Sciences),2017,38(1):9296.]硅片表面杂质浓度扩散方程的差分方法
更新日期/Last Update: 2017-03-20